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硅片研磨抛光机公司，1．采用间隔式自动喷液装置，可自由设定喷液间隔时间。2．系列研磨机工件加压采用气缸加4的方式，压力可调；抛光后工件表面光亮度高、无划伤、无料纹、无麻点、不塌边、平面度高等特点。抛光后工件表面粗糙度可达到Ra0.0002；平面度可控制在±0.002mm范围内。3．系列研磨机采用PLC程控系统，触摸屏操作面板，研磨盘转速与定时可直接在触摸屏上输入。1.本机主体采用一次成型工艺，合理的结构大大提升整机刚性度2.提供的传动系统，运行稳定，噪音小3.驱动电机采用变频控制，启动与仃止设有缓冲延时，运行过程中调速稳定冲击小，有效降低产品报废率。4.上磨盘自动找平，无需人为干预，有效解决错盘问题5上磨盘具备自锁功能安全性能进一步提高，提供快升快降缓升缓降功能6采用独特的设计，中心齿轮直径减小，加工面积增大，速比可调游轮可正反转，节省能耗的同时生产效率大大提高7太阳轮与内齿圈同步升降，满足取放工件及调整游轮啮合位置的要求8采用集用注润滑系统，对各相对运动面进行充分润滑9.本机提供PLC与继电器控制供用户选择
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